-
Витратні матеріали для гальваніки -
Устаткування гальванічне -
Теплоелектронагрівачі та блоки контролю температури для гальваніки Обладнання хімічної металізації Обладнання аквапринт -
Розчини для хімічної металізації
Розчини для хімічної металізації
Хімічна металізація є технологією, яка дозволяє наносити тонкий, рівномірний металевий шар на різні поверхні, від пластику до скла. На відміну від гальваніки, цей процес не вимагає електричного струму. Замість цього, метал осідає на поверхні за рахунок хімічної реакції.
Який принцип роботи?
Процес хімічної металізації складається з декількох етапів:
• Підготовка поверхні: поверхню ретельно очищають і обробляють спеціальними розчинами для забезпечення кращої адгезії металевого шару.
• Нанесення провідного шару: на поверхню наноситься тонкий шар каталізатора, який ініціює процес відкладення металу.
• Осадження металу:поверхня занурюється в спеціальний розчин і відновник. Під впливом каталізатора метал відновлюється і осідає на поверхні, утворюючи блискуче покриття.
Процес хімічної металізації знайшов широке застосування в промисловості, електротехніці, ювелірному виробництві та інших галузях, завдяки своїй універсальності і здатності вдосконалити властивості виробів.







